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| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 麵議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 其他 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子,綜合 |
相位掩模版
產(chan) 品介紹
相位掩模版用於(yu) 製造光纖布拉格光柵，它是控製高性能光學網絡中波長選擇性和色散補償(chang) 的關(guan) 鍵組件。相位掩模版具有廣泛的應用，但是比較常見的是，PMT相位掩模版（本身就是光柵）用於(yu) 記錄其他光柵，例如集成光學設備中的平麵波導光柵和光纖布拉格光柵（FBG）。FBG是位於(yu) 光纖芯中的光頻率濾波器。相位掩模版技術是相位掩模版製造領域的領/跑者。相掩模製造廠位於(yu) 加利福尼亞(ya) 州弗裏蒙特，涉及微細加工和全息技術方麵的複雜而苛刻的技術。
指/定標準或自定義(yi) 相位掩模版時，需要執行一些重要的步驟和計算，以確保設備按預期運行。本文將幫助您檢查在指/定下一個(ge) 任務關(guan) 鍵階段掩碼時所需的總體(ti) 配置和公式。
相位掩模版介紹
相掩模是表麵起伏光柵，通常在熔融石英中蝕刻，如圖1所示。 在大多數應用中，相位掩模版本質上用作精密衍射光柵，它將通常在UV光譜範圍內(nei) 的入射單色光束分成兩(liang) 個(ge) 出射光束。 這兩(liang) 個(ge) 出射光束在它們(men) 重疊的區域中產(chan) 生幹涉圖樣，如圖2所示。
相位掩模版具有廣泛的應用，但是比較常見的是，PMT相位掩模版用於(yu) 記錄其他光柵。 這些的典型示例是集成光學器件中使用的平麵波導光柵和光纖布拉格光柵（FBG）。 FBG是光纖纖芯折射率的周期性調製，通常用於(yu) 在一個(ge) 或多個(ge) 波長下產(chan) 生高反射特性。
相位掩模版配置
大多數相位掩模版均采用高純度的紫外線透明熔融石英製成，但也可以使用其他材料。 可訪問的數據表提供了我們(men) 標準產(chan) 品各種相位掩模版參數範圍的概述。
相位掩模版光柵的“周期"（或“間距"）範圍從(cong) 幾百納米到近2000納米（2微米）。 光柵區域的尺寸範圍很廣，從(cong) 幾平方毫米到10毫米乘120毫米不等。 在其上蝕刻了相位掩模版光柵的二氧化矽襯底的厚度通常為(wei) 1/8“。更長的光柵輪廓基本上是二進製的（矩形波）周期，並且在較短的周期內(nei) 趨於(yu) 準正弦曲線。
通常以+ 1 / -1或0 / -1兩(liang) 種配置中的一種來使用相位掩模版，其中數字是指包含大量衍射光的衍射級數。
在+ 1 / -1配置中，UV輻射以垂直入射的方式對準相位掩模版，由出射光束的幹涉產(chan) 生的條紋圖案的周期恰好是相位掩模版光柵周期的一半，如下所示： 如圖3所示。 在0 / -1配置中，UV輻射以特定選擇的入射角射向相位掩模版，並且條紋圖案的周期與(yu) 相位掩模版光柵的周期相等。
圖4的上部是+ 1 / -1配置中FBG記錄的示意圖。 紫外線通常入射在相位掩模版上。 條紋的圖案是高強度和低強度的固定交替區域，是由於(yu) 兩(liang) 個(ge) 出射光束的幹涉而產(chan) 生的。一段光纖（通常由二氧化矽製成）以這種幹涉圖案放置。 通常通過摻雜鍺，錫，硼，磷和其他元素的氧化物，使纖芯具有光敏性。 由於(yu) 這種光敏性，纖芯的折射率通過暴露於(yu) 紫外線輻射而改變。因此，暴露於(yu) 幹涉圖案會(hui) 導致芯材料中折射率的周期性調製。 結果是光纖布拉格光柵（FBG），如圖4底部所示。
在工作中，FBG充當窄帶抑製濾波器，如圖5所示。 具體(ti) 而言，一個(ge) 波長被FBG高度反射，而其他波長未衰減地通過。 FBG位於(yu) 許多光纖傳(chuan) 感設備和電信組件的核心。 它們(men) 是許多光纖係統中的基本構建塊。
相位掩模版公式
當相位掩模版以+ 1 / -1配置運行時，紫外線通常會(hui) 入射在光柵上，如圖6所示。 衍射角θ0，θ-1，θ+ 1，θ-2，θ+ 2等由下式給出：UV波長λUV和相位掩模版周期ΛPM
sinΘm= mλUV/ΛPM
由+1和-1光束的幹涉產(chan) 生的條紋圖案的周期正好是相位掩模版周期的一半，而與(yu) 入射輻射的波長無關(guan) 。
PMT的相位掩模版經過優(you) 化，因此+1和-1階的強度z大，而零階的強度z小。 同樣，如果存在更高階數的強度（m =±2，±3等），也將被z小化。
如圖7所示，相位掩模版也可以在0 / -1配置下運行。該配置由條件|Θ0| = |Θ-1|定義(yi) ，該條件確保條紋垂直於(yu) 相位掩模版表麵。
為(wei) 了滿足此條件，所需的入射角為(wei) ：
| sinΘin| = | sinθ0| =λUV/（2ΛPM）
此外，如果滿足條件（2/3）ΛPM<λUV<2ΛPM，那麽(me) 將隻有一個(ge) 衍射階（-1階），而沒有其他階（例如+ 1，±2，±3） 等）。 換句話說，隻有兩(liang) 個(ge) 輸出光束：0階和-1階。 這保證了幹淨的條紋圖案。
由0階和-1階光束的幹涉產(chan) 生的條紋圖案的周期正好等於(yu) 相位掩模版周期的周期。
無論入射輻射的波長如何，這都是正確的，而且不管是否在這種條件， |sin Θin| = λUV /(2 ΛPM )都可實現。
統一相位掩模版（RPM）
| 特點 Ø矩形基板，易於(yu) 對準 Ø光柵長度從(cong) 20.0毫米到45.0毫米 Ø全息記錄 應用領域 Ø密集波分複用（DWDM）濾波器和分插模塊 Ø變頻鎖櫃和泵穩定器 Ø相位掩模版用於(yu) 製造摻鉺光纖放大器的增益平坦濾波器 |
規格
工作波長（nm） | 190 to 400 |
相位屏蔽周期（µm） | 0.4 to 1.2 |
周期製造公差（nm） | 未啁啾掩模為(wei) ±0.3（可選±0.1） |
周期測量精度（nm） | ±0.02 |
外型尺寸 | 基板尺寸/孔徑(自定義(yi) 尺寸) 17.2 mm x 24.5 mm/10 mm x 20 mm 17.2 mm x 38.1 mm/10 mm x 34 mm 17.2 mm x 50.8 mm/10 mm x 45 mm |
啁啾範圍（啁啾掩模）（nm / cm） | 0.03 to 40 |
衍射效率（％） | <_3 in="" 0th="">_33 in ±1st order (RPM) <_5 in="" 0th="">_30 in ±1st order (RPMC) 在0.7 µm至1.2 µm之間 |
損傷(shang) 閾值（J / cm2） | 在248 nm的50 Hz下優(you) 於(yu) 每個(ge) 脈衝(chong) 1個(ge) |
材料 | Corning 7980, Suprasil |
基板平整度 | λat 248 nm, both sides |
劃痕麻點 | 20 to 10 |
增透膜 | 可選 |
楔形（弧度） | <30 |
厚度（毫米） | 3.175 ±0.125 |
對於(yu) 啁啾掩模：中心周期精度：±0.5 nm，中心定位誤差為(wei) ±200 µm。
訂購信息：RPM（如果啁啾則為(wei) RPMC）-<激光波長>-<掩模周期>-<（光柵尺寸（寬x長））基板尺寸（寬x長）>。
示例：將17.2 mm x 25.4 mm尺寸的相位掩模版與(yu) 248 nm的KrF準/分子/激光器一起使用，周期為(wei) 1.0600 µm，指/定為(wei) ：RPM-248-1.0600-（10 x 20）17.2 x 25.4。
8 nm / cm mask掩模的示例：RPMC-248-1.0600-（10 x 20）17.2 x 25.4-8 nm / cm。
啁啾相位掩模版（RPMC）
| 特點 Ø矩形基板，易於(yu) 對準 Ø光柵長度從(cong) 20.0毫米到45.0毫米 Ø全息記錄 應用領域 Ø密集波分複用（DWDM）濾波器和分插模塊 Ø變頻鎖櫃和泵穩定器 Ø相位掩模版用於(yu) 製造摻鉺光纖放大器的增益平坦濾波器 |
規格
工作波長（nm） | 190 to 400 |
相位屏蔽周期（µm） | 0.4 to 1.2 |
周期製造公差（nm） | 未啁啾掩模為(wei) ±0.3（可選±0.1） |
周期測量精度（nm） | ±0.02 |
外型尺寸 | 基板尺寸/孔徑（自定義(yi) 尺寸） 17.2 mm x 24.5 mm/10 mm x 20 mm 17.2 mm x 38.1 mm/10 mm x 34 mm 17.2 mm x 50.8 mm/10 mm x 45 mm |
啁啾範圍（啁啾掩模）（nm / cm） | 0.03 to 40 |
衍射效率（％） | <_3 in="" 0th="">_33 in ±1st order (RPM) <_5 in="" 0th="">_30 in ±1st order (RPMC) 在0.7 µm至1.2 µm之間 |
損傷(shang) 閾值（J / cm2） | 在248 nm的50 Hz下優(you) 於(yu) 每個(ge) 脈衝(chong) 1個(ge) |
材料 | Corning 7980, Suprasil |
基板平整度 | λat 248 nm, both sides |
劃痕麻點 | 20 to 10 |
增透膜 | 可選 |
楔形（弧度） | <30 |
厚度（毫米） | 3.175 ±0.125 |
對於(yu) 啁啾掩模：中心周期精度：±0.5 nm，中心定位誤差為(wei) ±200 µm。
訂購信息：RPM（如果啁啾則為(wei) RPMC）-<激光波長>-<掩模周期>-<（光柵尺寸（寬x長））基板尺寸（寬x長）>。
示例：將17.2 mm x 25.4 mm尺寸的相位掩模版與(yu) 248 nm的KrF準/分/子/激光器一起使用，周期為(wei) 1.0600 µm，指/定為(wei) ：RPM-248-1.0600-（10 x 20）17.2 x 25.4。
8 nm / cm mask掩模的示例：RPMC-248-1.0600-（10 x 20）17.2 x 25.4-8 nm / cm。
長相掩模（LPM）
| 特點 Ø120毫米長光圈 Ø全息記錄 Ø線性啁啾 應用領域 Ø色散補償(chang) 光柵（DCG） Ø數字波分複用（DWDM） Ø窄帶過濾器 |
規格
工作波長（nm） | 190 to 400 |
相位屏蔽周期（µm） | 0.6-1.2 |
周期製造公差（nm） | 未啁啾掩模為(wei) ±0.3（可選±0.1） |
周期測量精度（nm） | ±0.02 |
外形尺寸 | 基板尺寸/孔徑 17.2 mm x 76.2 mm/10 mm x 60 mm 17.2 mm x 127.0 mm/10 mm x 120 mm |
啁啾範圍（啁啾掩模）（nm / cm） | 0.03 to 30 |
衍射效率（％） | <_5 in="" 0th="">_30 in ±1st order |
損傷(shang) 閾值（J / cm2） | 在248 nm的50 Hz下優(you) 於(yu) 每個(ge) 脈衝(chong) 1個(ge) |
材料 | Corning 7980, Suprasil |
基板平整度 | λat 248 nm, both sides |
劃痕麻點 | 20 to 10 |
增透膜 | 可選 |
楔形（弧度） | <30 |
厚度（毫米） | 3.175 ±0.125 |
對於(yu) 啁啾掩模：中心周期精度：±0.5 nm，中心定位誤差為(wei) ±200 µm。
訂購信息：LPM（如果啁啾則為(wei) LPMC）-<激光波長>-<掩模周期>-<（光柵尺寸（寬x長））基板尺寸（寬x長）>。
示例：將15 mm x 127 mm尺寸的相位掩模版與(yu) 248 nm的KrF準/分/子/激光器一起使用，周期為(wei) 1.0600 µm，指/定為(wei) ：LPM-248-1.0600-（10 x 120）17.2 x 127。
0.083 nm / cm mask掩模的示例：LPMC-248-1.0600-（10 x 120）17.2 x 127-0.083 nm / cm。
定製相位掩模版
用於(yu) 光波導光柵的二元相位掩模版 | 特點 Ø非常適合在光波導和集成電路中自動製造體(ti) 積光柵和表麵起伏光柵 Ø適用於(yu) 矽上二氧化矽和其他新興(xing) 技術 |
規格
基材材質 | 熔融石英 |
基板厚度 | 3.175毫米，10.0毫米（可根據要求提供其他尺寸） |
任何單個(ge) 有源光柵區域的周期 | 300 nm to 1200 nm |
標準基板尺寸 | 3 in. x 3 in., 4 in. x 4 in., 5 in. x 5 in. |
自定義(yi) 配置示例
請注意，這些圖紙僅(jin) 用於(yu) 說清目的，並不反映Coherent的製造限製。 我們(men) 很高興(xing) 與(yu) 您合作，以滿足您的特定設計要求。
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