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Eksma 可變衰減器990-0073

簡要描述:Eksma 可變衰減器990-0073
可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動學支架製成,配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-04-23
  • 訪  問  量:1107

詳細介紹

品牌Eksma價格區間麵議
組件類別雷竞技竞彩底金應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma 可變衰減器990-0073

適用於(yu) 飛秒和ND:YAG激光脈衝(chong) 的可變衰減器990-0073

Eksma 可變衰減器990-0073

可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動學支架製成,配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。

產(chan) 品介紹

Ø將激光束分為(wei) 兩(liang) 束手動調節的強度比,以68°角分開

Ø大動態範圍

Ø透射光束偏移〜1.4毫米

Ø高光學損傷(shang) 閾值

該可變衰減器/分束器由直徑76.2 mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,同時透射p偏振光,並裝入分束器安裝座840-0056-13和石英零階(光學接觸)。直徑為(wei) 40 mm的半波片(用於(yu) 飛秒脈衝(chong) ),零階空間隔的半波片(用於(yu) 高功率應用)或多階半波片(用於(yu) Nd:YAG激光脈衝(chong) )容納在旋轉的偏振片支架840-0180-A2中,放置在入射的線性偏振激光束中。

可以通過旋轉波片來連續改變那兩(liang) 個(ge) 分離且不同的偏振光束的強度比,而無需改變其他光束參數。可以在很寬的動態範圍內(nei) 控製出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。

840-0056-13運動安裝座可將薄膜Brewster型偏振片的入射角(AOI)調整為(wei) ±4.5°,並獲得較大的消光對比度。支架位於(yu) 杆,杆支架和可移動基座820-0090上。

距桌麵的光軸高度可以在92-98 mm的範圍內(nei) 調節。可以提供其他高度作為(wei) 定製,以將標準杆和杆架更改為(wei) 更高的高度。

產(chan) 品型號

適用於(yu) Nd:YAG激光應用

代碼

波長

激光損傷(shang) 閾值

990-0073-355

355 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

990-0073-532

532 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

990-0073-1064

1064 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

飛秒激光脈衝(chong)

代碼

波長

激光損傷(shang) 閾值

990-0073-266

266 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-343

343 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-400

400 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-515

515 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-800

800 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-800B

780-820 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-1030

1030 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-1030B

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

適用於(yu) 高功率飛秒應用

代碼

波長

激光損傷(shang) 閾值

990-0073-266H

266 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-343H

343 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-400H

400 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-515H

515 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-800H

800 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-800HB

780-820 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-1030H

1030 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-1030HB

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm


通光孔徑

36 mm

損害閾值


對於(yu) Nd:YAG應用

>5 J/cm2, 10 ns at, 10 Hz 1064 nm, typical

飛秒應用

>10 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical

用於(yu) 大功率應用

>100 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical

偏振比

>1:200

透射光束偏移

~1.4 mm

重量

0.6 kg

EKSMA OPTICS是激光,激光係統和raybet雷竞技首页中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用raybet雷竞技首页。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英雷竞技竞彩底金的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。


產(chan) 品谘詢

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