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| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 麵議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 雷竞技竞彩底金 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子,綜合 |
Edmund Nd:YAG 諧波分離器濾光片
用於(yu) 分隔 Nd:YAG 諧波波長
分光鏡鍍膜透射率 >95%
λ/10 熔融石英基片
Edmund Nd:YAG 諧波分離器濾光片用於(yu) 分隔 Nd:YAG 激光器的常見諧波波長。表麵上的分光鏡鍍膜至少能反射一個(ge) 波長，並傳(chuan) 輸另一個(ge) 波長。分光鏡的第二表麵具有防反射鍍膜，減少反射導致的損失. TECHSPEC® Nd:YAG 諧波分離器是專(zhuan) 為(wei) 45°入射角時的集成而設計。這些諧波分離器在多種波長配置中提供，用於(yu) 使係統設計獲得靈活性.
通用規格
| 厚度 (mm): | 6.35 ±0.20 |
| 基底: | Fused Silica |
| 入射角 (°): | 45 |
| 表麵平整度: | λ/10 |
| 表麵質量: | 10-5 |
| 構造 | Dichroic |
產(chan) 品信息
AOI (°) | 反射波長 (nm) | 傳輸波長 (nm) | Dia. (mm) | 塗層規格 | 產品編碼 |
| 45 | 266 | 532, 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >95% @ 266nm, Tabs: >98% @ 532nm, Tabs: >98% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 532nm, Rabs <1.0% @ 1064nm | #11-545 |
| 45 | 266 | 532, 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >95% @ 266nm, Tabs: >98% @ 532nm, Tabs: >98% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 532nm, Rabs <1.0% @ 1064nm | #11-546 |
| 45 | 266 | 355 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 266nm, Tabs: >95% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #37-722 |
| 45 | 266 | 355 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 266nm, Tabs: >95% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #37-721 |
| 45 | 355 | 532 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #37-720 |
| 45 | 355 | 532 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #37-719 |
| 45 | 355 | 532, 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532, 1064nmSurface 2: Rabs: <0.75% @ 532, 1064nm | #38-779 |
| 45 | 355 | 532, 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532, 1064nmSurface 2: Rabs: <0.75% @ 532, 1064nm | #38-778 |
| 45 | 532 | 355 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #37-718 |
| 45 | 532 | 355 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #37-717 |
| 45 | 532 | 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 1064nm | #37-716 |
| 45 | 532 | 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 1064nm | #37-715 |
| 45 | 532, 1064 | 266 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >70% @ 266nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 266nm | #11-547 |
| 45 | 532, 1064 | 266 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >70% @ 266nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 266nm | #11-548 |
| 45 | 532, 1064 | 355 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532, 1064nm, Tabs: >90% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #38-781 |
| 45 | 532, 1064 | 355 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532, 1064nm, Tabs: >90% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #38-780 |
| 45 | 1064 | 532 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #37-714 |
| 45 | 1064 | 532 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #37-698 |
| 0 | 266 | 532, 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >95% @ 266nm, Tabs: >98% @ 532nm, Tabs: >98% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 532nm, Rabs <1.0% @ 1064nm | #22-658 |
| 0 | 266 | 532, 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >95% @ 266nm, Tabs: >98% @ 532nm, Tabs: >98% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 532nm, Rabs <1.0% @ 1064nm | #22-659 |
| 0 | 355 | 532 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #22-662 |
| 0 | 355 | 532 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #22-663 |
| 0 | 532 | 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 1064nm | #22-668 |
| 0 | 532 | 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 1064nm | #22-669 |
| 0 | 1064 | 532 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #22-674 |
| 0 | 1064 | 532 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #22-675 |
Edmund Optics® (EO)作為(wei) 優(you) 良的光學、成像和光子技術供應商，自1942年成立以來一直服務於(yu) 生命科學，生物醫學，工業(ye) 檢測，半導體(ti) ，研發和國防等各個(ge) 行業(ye) 。 EO設計並製造了一係列應用廣泛的雷竞技竞彩底金、多元件鏡頭、成像係統以及光機械設備，同時批量生產(chan) 標準產(chan) 品和定製產(chan) 品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個(ge) 以上的國家/地區，擁有員工1,000多名並還在繼續擴大。
光學濾光片簡介
濾光片選擇性地透射光譜的一部分，同時拒絕透射其餘(yu) 部分。愛特蒙特光學的光學濾光片常用於(yu) 顯微鏡、光譜學、化學分析和機器視覺，可提供各種過濾類型和精度等級。本應用筆記介紹了用於(yu) 製造愛特蒙特光學濾光片的不同技術、一些關(guan) 鍵規範的定義(yi) 以及愛特蒙特光學提供的各種濾光片的描述。
光學濾光片關(guan) 鍵術語
雖然濾光片與(yu) 其他光學組件有許多相同的規範，但是為(wei) 了有效地了解並確定哪種濾光片適合您的應用，應該了解濾光片中的許多特定規範。
中心波長 (CWL)
用於(yu) 定義(yi) 帶通濾光片的中心波長描述頻譜帶寬的中點，濾光片在此之上傳(chuan) 輸。傳(chuan) 統的鍍膜光學濾光片傾(qing) 向於(yu) 在中心波長附近達到大的透射率，而鍍加硬膜的光學濾光片往往在光譜帶寬上有相當平坦的傳(chuan) 輸輪廓。
帶寬
帶寬是一個(ge) 波長範圍，用於(yu) 表示頻譜通過入射能量穿過濾光片的特定部分。帶寬又稱為(wei) FWHM（圖1）。
圖 1: 中心波長和半峰全寬說明
半峰全寬 (FWHM)
FWHM
描述帶通濾光片將傳(chuan) 輸的頻譜帶寬。該帶寬的上限和下限是在濾光片達到大透射率的 50% 時的波長下定義(yi) 的。例如，如果濾光片的大透射率是 90%，那麽(me) 濾光片達到透射率之 45% 時的波長將定義(yi) FWHM 的上限和下限。10 納米或更低的 FWHM 被認為(wei) 是窄帶，通常用於(yu) 激光淨化和化學檢測。25-50 納米的 FWHM 經常用於(yu) 機器視覺應用；超過 50 納米的 FHWM 被認為(wei) 是寬帶，通常用於(yu) 熒光顯微鏡應用。
截止範圍
阻斷範圍是用於(yu) 表示通過濾光片衰減的能量光譜區域的波長間隔（圖2）。阻斷程度通常會(hui) 在光密度中定。
圖 2: 截止範圍說明
斜率
斜率是通常在邊緣濾光片上定義(yi) 的規範，如短波通或長波通濾光片，用來描述濾光片從(cong) 高截止轉換為(wei) 高透射率的帶寬。可以從(cong) 各種起點和終點定斜率，作為(wei) 截止波長的百分比。愛特蒙特光學有限公司通常將斜率定義(yi) 為(wei) 從(cong) 10% 傳(chuan) 輸點到 80% 傳(chuan) 輸點的距離。例如，將期望具有 1% 斜率的 500 納米長波通濾光片在 5 納米（500 納米的 1%）帶寬上從(cong) 10% 的透射率轉換為(wei) 80% 的透射率。
光密度(OD)
光密度描述被濾光片阻斷或拒絕的能量量。高光密度值表示低透射率，低光密度則表示高透射率。6.0或更大的光密度用於(yu) 兩(liang) 端的阻斷需求，如拉曼光譜或熒光顯微鏡。3.0-4.0的光密度是激光分離和淨化、機器視覺和化學檢測的理想選擇，而 2.0 或更少的光密度是顏色排序和分離光譜順序的理想選擇。
圖3:光密度說明
二向色性濾光片
二向色性濾光片是用於(yu) 取決(jue) 於(yu) 波長透射率或反射光的濾光片類型；特定波長範圍透射的光則鑒於(yu) 不同範圍的光線反射或吸收（圖4）。二向色性濾光片常用於(yu) 長波通和短波通應用。
圖
4:
二向色性濾光片鍍膜說明
起始波長
起始波長是用於(yu) 表示在長波通濾光片中透射率增加至50%波長的術語。起始波長由圖5中的λcut-on起始表示。
圖 5:
起始波長說明
截止波長
截止波長是用於(yu) 表示在短波通濾光片中透射率降低至50%波長的術語。截止波長由圖6中的λcut-off截止表示。
圖
6:
截止波長說明
Edmund Optics® (EO)作為(wei) 優(you) 良的光學、成像和光子技術供應商，自1942年成立以來一直服務於(yu) 生命科學，生物醫學，工業(ye) 檢測，半導體(ti) ，研發和國防等各個(ge) 行業(ye) 。 EO設計並製造了一係列應用廣泛的雷竞技竞彩底金、多元件鏡頭、成像係統以及光機械設備，同時批量生產(chan) 標準產(chan) 品和定製產(chan) 品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個(ge) 以上的國家/地區，擁有員工1,000多名並還在繼續擴大。Edmund Optics® (EO)作為(wei) 優(you) 良的光學、成像和光子技術供應商，自1942年成立以來一直服務於(yu) 生命科學，生物醫學，工業(ye) 檢測，半導體(ti) ，研發和國防等各個(ge) 行業(ye) 。 EO設計並製造了一係列應用廣泛的雷竞技竞彩底金、多元件鏡頭、成像係統以及光機械設備，同時批量生產(chan) 標準產(chan) 品和定製產(chan) 品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個(ge) 以上的國家/地區，擁有員工1,000多名並還在繼續擴大。Edmund Optics® (EO)作為(wei) 優(you) 良的光學、成像和光子技術供應商，自1942年成立以來一直服務於(yu) 生命科學，生物醫學，工業(ye) 檢測，半導體(ti) ，研發和國防等各個(ge) 行業(ye) 。 EO設計並製造了一係列應用廣泛的雷竞技竞彩底金、多元件鏡頭、成像係統以及光機械設備，同時批量生產(chan) 標準產(chan) 品和定製產(chan) 品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個(ge) 以上的國家/地區，擁有員工1,000多名並還在繼續擴大。Edmund Optics® (EO)作為(wei) 優(you) 良的光學、成像和光子技術供應商，自1942年成立以來一直服務於(yu) 生命科學，生物醫學，工業(ye) 檢測，半導體(ti) ，研發和國防等各個(ge) 行業(ye) 。 EO設計並製造了一係列應用廣泛的雷竞技竞彩底金、多元件鏡頭、成像係統以及光機械設備，同時批量生產(chan) 標準產(chan) 品和定製產(chan) 品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個(ge) 以上的國家/地區，擁有員工1,000多名並還在繼續擴大。
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